ALD equipment for perovskite 钙钛矿ALD原子层沉积设备

      热型ALD/等离子体增强型ALD，配置独立表面清洗、溅射、反应溅射腔，实现多膜层在真空条件下切换成膜，交替引入不同化学气相前驱体，进行自限制化学反应，逐层成膜，精确控制薄膜生长，实现原子级别厚度控制，实现高度均匀涂层覆盖，包括具有微观或甚至纳米级别结构表面，独立运行反应腔体，确保最大化设备运行率。