Perovskite deposition equipment 钙钛矿蒸镀设备
高集成设计,灵活性好,兼容性高,自动蒸镀控制系统实现全自动工艺,高均匀性蒸发源、双源共蒸、高精度膜厚监控、防腐蚀性技术,膜厚均匀性高,重复性强,速率稳定,可蒸镀腐蚀性钙钛矿材料,对材料限制性低,蒸镀器件效率高,寿命长,可满足顶发射器件制备要求,占地面积小,使用成本低,维护成本低,性价比高。
HCEB系列
钙钛矿蒸镀设备
高集成设计,灵活性好,兼容性高,自动蒸镀控制系统实现全自动工艺,高均匀性蒸发源、双源共蒸、高精度膜厚监控、防腐蚀性技术,膜厚均匀性高,重复性强,速率稳定,可蒸镀腐蚀性钙钛矿材料,对材料限制性低,蒸镀器件效率高,寿命长,可满足顶发射器件制备要求,占地面积小,使用成本低,维护成本低,性价比高。
型号 | HCEB |
基板尺寸 | ≤300×300mm,数量4片 |
应用 | 钙钛矿太阳电池/OLED/LED等光电器件 |
抽速 | 大气压至1.5×10-3Pa≤30min |
极限真空度 | 8.0×10-5Pa |
蒸发源 | 8组蒸发源,可实现双源共蒸,可配电子束蒸发系统 |
mask | 每个基片可配不同mask |
膜厚控制仪 | 晶控 |