该系列的开发是为了满足面向大规模生产的市场需求，设备经过生产验证，高生产率，最低的拥有成本大批量光学元件成本优化生产。
可制备AR、UV/IR截止滤光片、AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等。
配备电子枪、穴型、腰型或环形坩埚，阻抗式蒸发源;
配置光学膜厚控制仪或石英晶体膜厚控制仪，可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制;
可选射频RF/考夫曼型/霍尔型离子源。
AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
■ 420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■ 双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜测试标准：
■ 初始接触角范围为 115±5°；
■ 钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
■ 橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。
满足规模生产的市场需求
满足客户需求的多种元件组合
易于操作和维护
高性能、高通用性
自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程
提供工厂远程诊断
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-2700 |
| 腔体尺寸 | Φ2700 x H1850 |
| 装载量 | 5.3 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至2.0×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 1.0×10-4Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，自动翻转，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高250℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，穴型、腰型/环形坩埚，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | AR、AS/AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、HR膜等 |
| 适用波长 | 380nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-2350 |
| 腔体尺寸 | Φ2350 x H1510 |
| 装载量 | 3.8 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至2.0×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 1.0×10-4Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，自动翻转，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高250℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，穴型、腰型/环形坩埚，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | AR、AS/AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、HR膜等 |
| 适用波长 | 380nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
