具备RF-ICP/CCP辅助磁控溅射后氧化模式，具有高沉积速率且光学性能匹配的特点。适用于车载盖板玻璃和3C产品前盖玻璃沉积AR膜，其中AR膜可为普通SiO2+Nb2O5膜系，也可为硬质SiO2+Si3N4膜系。同时也适用于3C产品后盖颜色膜（含渐变色膜）、NCVM膜的加工。
•出色的均匀性
•可实现不同的材料或提高产量
•集成式等离子体源，可提高涂层质量并进行基板预清洁
•快速更换不同尺寸基板的工具
•高目标利用率，不影响涂层规格
•简单的目标交换和易于访问的系统维护
可以形成无波长偏移的高密度光学薄膜
通过利用高折射率材料和低折射率材料的混合膜，能够实现高再现性的中间折射率膜
可对膜组成和膜厚进行高精度控制，从而实现蒸镀无法做到的功能性膜
低温成膜，支持各种应用
针对排气和工艺过程中产生的微粒采取应对措施，在减轻保养和清洁负担方面下功夫
搭载运行管理系统，可用于实时状态掌握和损失分析等
旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高；可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到最大的利用空间；全自动一体的提拉升降的转架装置，大幅度减少机器开关门时间，大大提高了生产效率与工艺稳定性；汇成专利离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。
可利用时间精准控制薄膜厚度，达到设计工艺要求，节省晶控，光控环节，为客户省去大量的膜厚仪耗材；可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低温成膜，可应对各种用途；自动调节气体流量专利装置，保持稳定的靶电压，保证成膜品质；可选“校正板外部调节机构”。
| 规格 | |
| 型号 | HCSO-1650T |
| 镀膜区域 | Φ1650x H850mm |
| 结构 | 多腔室 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~100RPM（可变） |
| 进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
| 工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C … |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
| 挂板 | （挂板宽度200～300 ) × H850mm |
| 挂板尺寸可客制化调整 | |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | DC/MF磁控溅射源+ ICP等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、激光雷达、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 适用波长 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCSO-2550T |
| 镀膜区域 | Ф2700mm*H1950mm |
| 结构 | 双腔室结构（进出料室+工艺室） |
| 性能 | |
| 转速 | 10~100RPM（可变） |
| 进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
| 工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C … |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
| 挂板 | Φ2550x H1200 ~ H1800mm |
| 挂板尺寸可客制化调整 | |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV截止滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 适用波长 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
