磁控溅射光学镀膜设备

旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高；可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到最大的利用空间；全自动一体的提拉升降的转架装置，大幅度减少机器开关门时间，大大提高了生产效率与工艺稳定性；汇成专利离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。

可利用时间精准控制薄膜厚度，达到设计工艺要求，节省晶控，光控环节，为客户省去大量的膜厚仪耗材；可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能；低温成膜，可应对各种用途；自动调节气体流量专利装置，保持稳定的靶电压，保证成膜品质；可选“校正板外部调节机构”。

溅射沉积系统在侧壁上装有多个圆柱形靶材，以提高沉积速率和多层涂层，该系统配备有直流脉冲或射频功率圆形阴极，垂直安装的基板和圆柱形阴极可最大程度地减少涂层过程中的颗粒污染。