AR 膜（基材玻璃透过率＞91.5%）：
■ 420-680nm波段，单面平均透过率＞95%，反射率小于0.5（平均值）% ；
■ 双面平均透过率＞98%，反射率小于0.5（平均值）%；
AS/AF膜测试标准：
■ 初始接触角范围为 115±5°；
■ 钢丝绒耐摩擦测试标准：用 0000#钢丝绒，面积为 10*10mm,行程 40 次/分，负载1Kg，5000 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
■ 橡皮擦测试标准： 直径 6mm 橡皮擦，行程 25 次/分，负载1Kg， 2500 次往返摩擦后，接触角大于 100°；
备注：测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃，表面光洁。
采用大口径高输出离子源， 可实现离子辅助镀膜
针对排气和工艺过程中产生的微粒采取了措施
采用可精确控制的光学膜厚计、 多点监测交换机构
采用in-situ监测器能够提高成品率、缩短调整时间
涡轮分子泵可以在无油的清洁环境中进行成膜
搭载运行管理系统，可用于实时状态掌握和损失分析等
采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源，可以稳定地形成多层膜；采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜；可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。
使用均匀分布的高离子电流密度的离子源，搭载双电子枪，多点和环型坩埚可镀100层以上，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程，工件架可选择钟罩式或行星式。
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-1100 |
| 腔体尺寸 | Φ1100 x H1520 |
| 装载量 | 0.8 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至1.5×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等 |
| 适用波长 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-1350 |
| 腔体尺寸 | Φ1350 x H1610 |
| 装载量 | 1.1 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至1.5×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等 |
| 适用波长 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-1550 |
| 腔体尺寸 | Φ1550 x H1810 |
| 装载量 | 1.5 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至1.5×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等 |
| 适用波长 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCEB-1800 |
| 腔体尺寸 | Φ1800 x H1850 |
| 装载量 | 2.3 m2 |
| 结构 | 立式前开门，SUS304不锈钢 |
| 性能 | |
| 转速 | 10~30RPM（可变） |
| 抽速 | 大气压至1.5×10-3Pa≤30min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa |
| 膜料 | TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn… |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心上旋转伞架，单体或分体 |
| 加热系统 | 卤素灯 / 铠装加热器，最高350℃ |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + 低温泵 / Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | 电子枪，无氧铜坩锅，阻抗式蒸发源，射频/考夫曼型/霍尔型离子源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 膜厚控制仪 | 晶控或光控 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等 |
| 适用波长 | 300nm~1560nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
