超硬AR+AF/AS膜
莫氏硬度7
钢丝绒耐磨1万次>100°
射频离子源清洗及后氧化辅助溅射成膜，适用于车载盖板玻璃和3C产品前盖玻璃沉积AR膜，其中AR膜可为普通SiO2+Nb2O5膜系，也可为硬质SiO2+Si3N4膜系。可选在线AF/AS系统，沉积AR+AF/AS膜，AR+DLC+AF/AS膜，兼容2D/3D基材。同时也适用于3C产品后盖颜色膜（含渐变色膜）、NCVM膜的加工。
旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高；可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到最大的利用空间；汇成专利离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。
优势：
•出色的均匀性
•可实现不同的材料或提高产量
•集成式等离子体源，可提高涂层质量并进行基板预清洁
•快速更换不同尺寸基板的工具
•高目标利用率，不影响涂层规格
•简单的目标交换和易于访问的系统维护
真空机械手全自动同时上下料节省时间
ICP/CCP等离子体+磁控溅射光学工艺
炉内均匀性好
莫氏硬度7@750g
钢丝绒耐磨10000次>100°
兼容2D/2.5D/3D曲面基材
| 规格 | |
| 型号 | HCSO-2550V |
| 尺寸 | Ф2700mm*H2350mm |
| 结构 | 三腔室结构（进料室+工艺室+出料室） |
| 性能 | |
| 转速 | 10~100RPM（可变） |
| 进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
| 工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
| 挂板 |
Φ2550x H1200 ~ H1800mm 挂板尺寸可客制化调整 |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV截止滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 适用波长 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
| 规格 | |
| 型号 | HCSO-2550T |
| 镀膜区域 | Ф2700mm*H1950mm |
| 结构 | 双腔室结构（进出料室+工艺室） |
| 性能 | |
| 转速 | 10~100RPM（可变） |
| 进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
| 工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
| 极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
| 溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
| 主要配置 | |
| 夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
| 挂板 |
Φ2550x H1200 ~ H1800mm 挂板尺寸可客制化调整 |
| 排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
| 真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
| 镀膜系统 | DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
| 充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
| 控制系统 | PC+PLC |
| 应用 | |
| 光学薄膜应用 | UV截止滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等，兼容2D/3D基材 |
| 适用波长 | 300nm~780nm |
| 注：可客制化（数据仅供参考） | |
HCVAC-PVD
