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装饰磁控溅射真空镀膜设备

—膜层致密性好

MF Magnetron Sputtering Decorative PVD Coating Machine
watch decorative pvd coating

该设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种多元合金化合物装饰镀层。

提供各种金属颜色的涂层,如钢、镍、金、青铜以及无烟煤和黑色。涂层的颜色是由其成分决定的,由锆、钛、氮、碳、氧等金属组成。我们的工艺工程团队可以根据您的要求对颜色进行微调,使您有可能在您的市场中独树一帜。

应用领域

产品优势

Effective

高效

沉积速度快、基材温升低、膜层损伤小

Compact

结构紧凑

占地面积小,易于集成到工厂

High-precision

精准

精确控制镀层的厚度

Quality

优质

薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好

Flexible

多样化

不同金属、合金、氧化物混合溅射

Remote

监控

本地或远程监控镀膜过程

技术参数

型号HCMS-1212
真空室尺寸Ф1200×H1200mm
制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构立式双开门、立式单开门
真空系统机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号HCMS-1612
真空室尺寸Ф1600×H1200mm
制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构立式双开门、立式单开门
真空系统机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号HCMS-1912
真空室尺寸Ф1900×H1200mm
制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构立式双开门、立式单开门
真空系统机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号HCMS-2121
真空室尺寸Ф2100×H2100mm
制膜种类多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构立式双开门、立式单开门
真空系统机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统质量流量控制仪(1-4路)
极限真空6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做

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