HCEE系列

电子束蒸发

大型光学镀膜机

LARGE E-BEAM OPTICAL COATING MACHINE
真空应用解决方案提供商
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LARGE ELECTRON BEAM OPTICAL COATING EQUIPMENT 大型电子束蒸发光学镀膜机

      配备电子枪、穴型、腰型或环形坩埚,阻抗式蒸发源;配置光学膜厚控制仪或石英晶体膜厚控制仪,可实现成膜速度和镀膜过程的自动控制;可选射频RF/考夫曼型/霍尔型离子源。

      该系列的开发是为了满足面向大规模生产的市场需求,设备经过生产验证,高生产率,最低的拥有成本大批量光学元件成本优化生产。可制备AR、UV/IR截止滤光片、AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等。

AR 膜(基材玻璃透过率>91.5%):
■  420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■  双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

AS/AF膜测试标准:
■   初始接触角范围为 115±5°;
■   钢丝绒耐摩擦测试标准:用 0000#钢丝绒,面积为 10*10mm,行程 40 次/分,负载1Kg,5000 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
■   橡皮擦测试标准: 直径 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,负载1Kg, 2500 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
备注:测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃,表面光洁。

Product Advantage.

产品优势
HCEE系列大型电子束蒸发镀膜机包括以下关键功能:
  • 高产量

    满足规模生产的市场需求

  • 客制化

    满足客户需求的多种元件组合

  • 简单

    易于操作和维护

  • 通用

    高性能、高通用性

  • 自动化

    自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程

  • 远程访问

    提供工厂远程诊断

型号 HCEE-2700
尺寸(mm) Φ2700 x H1850
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 380nm~780nm
转速 0~30RPM(可变 variable)
抽速 大气压至2.0×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2,Ti3o5,H4,Zro2,Zns,Al2o3,Mgf2,Sio2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,稳定250℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 10KW电源,E型电子枪(270°偏转),穴型、腰型或环形坩埚,阻抗式蒸发源,可选射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等
注:可客制化
型号 HCEE-2350
尺寸(mm) Φ2350 x H1510
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 380nm~780nm
转速 0~30RPM(可变 variable)
抽速 大气压至2.0×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2,Ti3o5,H4,Zro2,Zns,Al2o3,Mgf2,Sio2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,稳定250℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 10KW电源,E型电子枪(270°偏转),穴型、腰型或环形坩埚,阻抗式蒸发源,可选射频/考夫曼型/霍尔型离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 晶控或光控
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、硬质膜、装饰膜、ITO膜 、带通滤光片、HR膜等
注:可客制化
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