HCEE系列

电子束蒸发

高精密光学镀膜机

High precision E-beam evaporation coating machine
真空应用解决方案提供商
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HIGH PRECISION E-BEAM EVAPORATION COATING MACHINE 高精密电子束蒸发镀膜机

      在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机;将满足客户需求的多种元件组合在一起,可以形成品质更加优良的薄膜;基片伞架采用中心旋转方式(公转),减少产生振动和颗粒,使基片能够稳定旋转。

      采用坩埚上没有极片的电子束加热方式作为蒸发源,可以稳定地形成多层膜;采用本公司独有的比率控制法和多点在线监控,可以形成高精度且稳定的光学多层膜;可利用操作性良好的升降机来取出基片伞架。

      使用均匀分布的高离子电流密度的离子源,搭载双电子枪,多点和环型坩埚可镀100层以上,利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程,工件架可选择钟罩式或行星式。

AR 膜(基材玻璃透过率>91.5%):
■  420-680nm波段,单面平均透过率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■  双面平均透过率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

AS/AF膜测试标准:
■   初始接触角范围为 115±5°;
■   钢丝绒耐摩擦测试标准:用 0000#钢丝绒,面积为 10*10mm,行程 40 次/分,负载1Kg,5000 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
■   橡皮擦测试标准: 直径 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,负载1Kg, 2500 次往返摩擦后,接触角大于 100°;
备注:测试样片玻璃需为经过精密抛光过的触摸屏盖板专用玻璃,表面光洁。

Product Advantage.

产品优势
HCEE系列高精密电子束蒸发镀膜机包括以下关键功能:
  • 高精密

    高精度光学多层薄膜的精密系统

  • 客制化

    满足客户需求的多种元件组合

  • 简单

    易于操作和维护

  • 通用

    高性能、高通用性

  • 自动化

    自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程

  • 远程访问

    提供工厂远程诊断

型号 HCEE-900
尺寸(mm) Φ900 x H1300
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 300nm~1100nm
转速 0~60RPM(可变 variable)
抽速 大气压至1.5×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2, Ti3o5, H4, Zro2, Zns, Al2o3, Mgf2, Sio2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 两套电子枪,Φ270mm无氧铜坩锅(12穴型、环型各一套),一套阻蒸蒸发源,Φ170mm口径离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 IC-6 (英福康)
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、增强反射膜、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光器、光触媒、HR膜等
注:可客制化
型号 HCEE-1100
尺寸(mm) Φ1100 x H1520
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 300nm~1100nm
转速 0~60RPM(可变 variable)
抽速 大气压至1.5×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2, Ti3o5, H4, Zro2, Zns, Al2o3, Mgf2, Sio2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 两套电子枪,Φ270mm无氧铜坩锅(12穴型、环型各一套),一套阻蒸蒸发源,Φ170mm口径离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 IC-6 (英福康)
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、增强反射膜、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光器、光触媒、HR膜等
注:可客制化
型号 HCEE-1350
尺寸(mm) Φ1350 x H1610
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 300nm~1100nm
转速 0~60RPM(可变 variable)
抽速 大气压至1.5×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2, Ti3o5, H4, Zro2, Zns, Al2o3, Mgf2, Sio2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 两套电子枪,Φ270mm无氧铜坩锅(12穴型、环型各一套),一套阻蒸蒸发源,Φ170mm口径离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 IC-6 (英福康)
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、增强反射膜、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光器、光触媒、HR膜等
注:可客制化
型号 HCEE-1550
尺寸(mm) Φ1550 x H1810
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 300nm~1100nm
转速 0~60RPM(可变 variable)
抽速 大气压至1.5×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2, Ti3o5, H4, Zro2, Zns, Al2o3, Mgf2, Sio2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 两套电子枪,Φ270mm无氧铜坩锅(12穴型、环型各一套),一套阻蒸蒸发源,Φ170mm口径离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 IC-6 (英福康)
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、增强反射膜、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光器、光触媒、HR膜等
注:可客制化
型号 HCEE-1800
尺寸(mm) Φ1800 x H1900
结构 立式前开门,SUS304不锈钢
适用波长 300nm~1100nm
转速 0~60RPM(可变 variable)
抽速 大气压至1.5×10-3Pa≤30min
极限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 Tio2, Ti3o5, H4, Zro2, Zns, Al2o3, Mgf2, Sio2, Au, Ag, Cu, Al, Ti, In, Sn...
夹具系统 中心上旋转伞架,单体或分体
加热系统 铠装加热器,最高350℃
排气系统 低真空泵组 + 高真空泵组 +  + Polycold
真空控制系统 真空控制器、皮宁及皮拉尼真空计
镀膜系统 两套电子枪,Φ270mm无氧铜坩锅(12穴型、环型各一套),一套阻蒸蒸发源,Φ170mm口径离子源
充气系统 MFC或APC自动压强控制仪
膜厚控制仪 IC-6 (英福康)
控制系统 工控电脑 + PLC + 触摸屏
光学薄膜应用 AR、UV/IR截止滤光片、AF、增强反射膜、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光器、光触媒、HR膜等
注:可客制化
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