Let's Get in Touch!

Contact Form-产品详情页

超⾼真空精密热蒸发镀膜机

采⽤超⾼真空蒸发镀膜技术,在极限真空环境下,配合在线残余⽓体分析仪实时监控残留有机物,搭载⾼精度阻蒸控制,⽀持选配射频离⼦源和光控系统,实现氧化物、氟化物等材料的超低吸收光学薄膜沉积。专为满⾜深紫外⾄红外波段光学元件及⾼功率激光系统的严苛镀膜需求⽽设计,⼴泛应⽤于激光光学薄膜、深紫外光刻、航空航天光电传感器及精密滤光⽚等⾼端领域。

超⾼真空精密热蒸发镀膜机

技术参数

型号HCEB1100-UVHCEB1550-UV
腔体尺寸(mm)Φ1100×H1270Φ1550×H1700
伞架(mm)Φ1000Φ1400
装载量Φ400×4Φ535×4 或 Φ600×2
极限真空度<1.0×10⁻⁶ Pa
夹具系统行星转架,自转最高200 RPM
加热系统最高400℃
RGAAMU>50,P<2×10⁻¹⁰ mbar
蒸发源电阻蒸发源 + 电子束蒸发源
吸收率MgF₂ <0.0005,LaF₃ <0.003

联系我们

留下您的信息,我们将为您提供一对一的技术支持和业务咨询

Contact Form-产品详情页

相关设备

获取资料

光学