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钙钛矿蒸镀设备

高集成设计,灵活性好,兼容性高
自动蒸镀控制系统实现全自动工艺
高均匀性蒸发源、双源共蒸、高精度膜厚监控、防腐蚀性技术
膜厚均匀性高，重复性强,速率稳定
蒸镀腐蚀性钙钛矿材料，对材料限制性低
蒸镀器件效率高,寿命长,
满足顶发射器件制备要求
占地面积小,使用成本低,维护成本低,性价比高

产品优势

技术参数

型号	HCEB
基板尺寸	≤300×300mm，数量4片
应用	钙钛矿太阳电池/OLED/LED等光电器件
抽速	大气压至1.5×10_-3Pa≤30min
极限真空度	8.0×10_-5Pa
蒸发源	8组蒸发源，可实现双源共蒸，可配电子束蒸发系统
mask	每个基片可配不同mask
膜厚控制仪	晶控

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广东省东莞市大岭山镇颜屋龙园路2号

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