在电子束蒸发过程中，电流首先通过钨丝，产生焦耳热并激发电子发射。在灯丝与坩埚之间施加的高压电场会加速这些自由电子，使其射向盛放镀膜材料的坩埚。通过强磁场将电子束聚焦成统一束流，当电子束轰击材料时，其动能转化为热能，使材料蒸发（或升华）并沉积到基片上。若在蒸发过程中向腔室通入适量反应气体（如氧气或氮气），还可实现反应沉积，制备非金属薄膜。
技术优势
▌高温处理能力
电子束热源能使材料达到远高于电阻加热舟/坩埚的极端温度，这不仅可实现极快沉积速率，更能蒸发钨、钽、石墨等高熔点材料与难熔金属。
▌材料高纯度保持
电子束蒸发能有效维持源材料纯度：坩埚的水冷设计将电子束加热严格限制于源材料区域，彻底杜绝周边元件造成的污染。
▌灵活构型配置
电子束蒸发源提供多种尺寸规格，配备单槽或多槽坩埚结构。采用电机驱动转盘进行坩埚位切换时，单个蒸发源即可实现多材料顺序沉积。
应用领域
▸金属化布线
用于在芯片、晶圆上沉积高纯度的铝、铜、钨等金属互连线和电极，其高纯度能有效保障电路的导电性能与可靠性。
▸薄膜器件
是制备薄膜电阻、电容及超导器件中关键金属层与介质层的重要工艺。
▸精密光学元件
为激光反射镜、光学透镜、滤光片等沉积二氧化硅、二氧化钛、氧化铪等介质薄膜，实现精确的增透、高反射或分光功能。其高纯度特性对保证光学薄膜的低损耗至关重要。
▸大型光学器件
由于其高沉积速率，该技术也适用于为大尺寸基板（如天文望远镜镜片）镀制高性能光学涂层。
▸高熔点材料沉积
是唯一能有效蒸发钨、钽、钼等难熔金属以制备超薄薄膜的PVD方法，广泛应用于前沿物理与材料科学研究。
▸多功能复合薄膜
利用多坩埚系统，可依次或共沉积不同材料，用于研发新型合金薄膜、多层复合结构及功能梯度材料。
