物理气相沉积（PVD）光学镀膜设备在智能手机领域应用广泛且至关重要，主要用于提升屏幕显示效果、优化相机性能，并增强设备外观与耐用性。
PVD技术在智能手机上主要解决两大需求：
光学功能：如增透、减反、滤光、传感。
装饰与防护：如美观的色彩、耐磨、抗指纹。
这是对光学镀膜要求最高、最精密的部分。
镜片：
AR抗反射膜：
目标：在每个镜片-空气界面减少反射，增加透光率，提升成像质量（更清晰、更少鬼影和眩光）。
技术：磁控溅射。
膜系：采用多层宽带AR膜，通常由高折射率材料（如Nb₂O₅, Ta₂O₅）和低折射率材料（如SiO₂）交替堆叠而成。需要在整个可见光波段（380-780nm）乃至红外波段都保持低反射率。
IR截止滤光片：
目标：滤除对人眼成像无用的红外光，保证色彩还原准确。
技术：磁控溅射。
膜系：在玻璃基片上沉积多层干涉膜，设计特定的截止带，精确反射或吸收红外光（通常截止点在650nm或720nm以上），同时高效透过可见光。
图像传感器：
彩色滤光片微腔结构：在传感器每个像素的彩色滤光片（Bayer阵列）上，使用PVD沉积微腔结构，通过光学干涉来增强特定颜色（R/G/B）的光子捕获效率，提高传感器的灵敏度和色彩饱和度。
摄像头装饰圈/窗口玻璃：
AR膜：窗口玻璃上镀AR膜，进一步减少杂散光。
装饰膜：使用磁控溅射或多弧离子镀在金属装饰圈上镀制各种颜色（如黑色、蓝色），提升美观度。
盖板玻璃：
AR/AF 复合膜：
目标：减少屏幕反光，提升户外可视性；提供抗指纹、疏油疏水特性。
技术：磁控溅射 + PECVD。
膜系结构：
底层：SiO₂，作为基础。
AR层：Nb₂O₅/SiO₂多层膜，实现减反增透。
AF层：通过PECVD工艺，在最外层沉积一层含氟的二氧化硅，提供抗指纹功能。
OLED 显示屏：
透明导电电极：在柔性OLED中，使用磁控溅射制备ITO或更先进的金属网格（如银、铜）作为透明电极。
薄膜封装：在柔性OLED上，使用PECVD沉积多层交替的SiO₂ 和SiNx 薄膜，形成水汽阻隔层，保护对水氧极其敏感的有机发光材料。
玻璃后盖：
色彩与效果膜：
目标：实现渐变色、AG哑光质感、镜面效果等。
技术：磁控溅射是绝对主力。
工艺：
渐变色：通过精确控制膜厚或使用掩膜板，在玻璃的不同区域沉积不同厚度的氧化物薄膜（如TiO₂, SiO₂），利用光的干涉产生色彩变化。
AG哑光：先在玻璃上进行化学蚀刻形成微纳结构，再镀上颜色层，光线形成漫反射，产生温润的哑光质感。
高光色：在光面玻璃上直接镀制颜色层，形成鲜艳、镜面的效果。
3D结构光/ToF传感器：
窄带滤光片：在接收端，使用磁控溅射沉积极其精密的干涉滤光片，只允许特定波长的红外激光（如940nm）通过，强烈抑制环境光干扰，保证传感精度。
接近/环境光传感器：
IR滤光片：滤除可见光，只让红外光通过，用于准确检测。
