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REID

REID镀膜解决方案

PVD技术主要应用于制造RFID标签的核心——天线。与传统蚀刻或印刷技术相比,PVD卷绕镀膜提供了一种高精度、低成本、环保的替代方案。采用 卷对卷磁控溅射 技术,在柔性基材(如PET、PI)上,以微米级的精度直接沉积金属薄膜,并通过后续的图案化工艺(如激光烧蚀),形成高性能的RFID天线电路。

与传统蚀刻法相比,该方案具有颠覆性优势:

  1. 大幅降低成本:金属利用率极高(>90%),减少贵金属(如银、铜)消耗,无化学废液处理成本。

  2. 环保绿色生产:干法工艺,彻底摆脱了蚀刻工艺的酸、碱废液污染。

  3. 高精度与一致性:可制备线宽达20μm以下的精细天线,一致性好,适用于高频(UHF)小型化标签。

  4. 生产速度快,效率高:全卷对卷连续生产,产能远高于蚀刻线。

  5. 基材适应性广:可在不耐温的柔性塑料薄膜上生产。

核心工艺:卷对卷磁控溅射

1. 系统构成:

  • 放卷与收卷系统:在真空腔室内外精确控制薄膜的张力与速度。

  • 真空系统:创建并维持溅射所需的高真空环境。

  • 溅射阴极:安装有金属靶材(如铝、铜、银)。

  • 张力控制系统:确保薄膜在传输过程中平稳、无褶皱。

  • 工艺气体系统:提供高纯氩气。

2. 工艺流程:

  • 步骤一:基材准备与清洗

    • 使用PET或PI薄膜。

    • 通过在线电晕处理或等离子体清洗,活化基材表面,去除污染物,显著提升金属膜附着力。

  • 步骤二:抽真空与预溅射

    • 将腔室抽至本底真空(如10⁻³ Pa量级)。

    • 通入氩气,进行预溅射,清洁靶材表面,稳定工艺。

  • 步骤三:金属层沉积

    • 基材以恒定速度通过溅射阴极下方。

    • 在氩等离子体中,氩离子轰击靶材,将金属原子溅射出来,沉积在运动的基材表面,形成一层均匀致密的金属薄膜。

    • 常用金属

      • :最常用,成本最低,导电性满足大部分需求。

      • :导电性更优,用于高性能标签,但成本较高。

      • :导电性最佳,用于对性能要求极高的场合。

  • 步骤四:后续图案化

    • 镀膜后的卷材进入后续工序,通常采用 激光烧蚀 进行图形化。

    • 高精度激光按照天线的设计图案,将不需要区域的金属膜气化去除,留下精细的天线电路。

应用领域

  • 超高频RFID标签:用于零售、物流、资产管理。

  • 高频RFID标签:用于门票、门禁卡、图书管理。

  • 柔性传感器天线:为物联网设备提供无线连接。

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