通过等离子体增强反应沉积技术在BOPP、PET等柔性材料表面制备氧化铝薄膜，可显著提升包装材料的阻隔性能与长期稳定性。该等离子体反应工艺能有效优化氧化铝层结构，使其具备更低的气体透过率。
相较于传统反应沉积技术，等离子体工艺在阻隔性能方面实现重大突破，以最低渗透率结合卓越的长期稳定性，为包装材料提供全面保护。
主要应用领域包括：
包装材料（食品、香烟、化妆品、药品的高阻隔包装）
表面装饰材料（圣诞饰品、花环、墙纸、压膜材料、日历等装饰基材）
烫印材料（反光标识、金属印刷、汽车内饰装饰膜等）
该技术通过纳米级致密氧化铝层的构建，在保持材料柔韧性的同时，赋予其媲美金属箔的阻隔性能，为高端包装与装饰行业提供创新解决方案。
在包装材料领域，PVD镀膜主要用于柔性基材，如：
基材类型： PET薄膜、BOPP薄膜、纸张、织物等。
核心应用：
装饰性镀膜： 制作炫丽的金属光泽效果（金、银、铬、彩金等），用于礼品包装、标签、烟酒包装、防伪标识等。
高阻隔性镀膜： 在薄膜上沉积氧化硅（SiOₓ）、氧化铝（AlOₓ）等，形成极佳的水汽和氧气阻隔层，用于高端食品、药品、电子元件的柔性包装。
功能性镀膜： 制备透明导电膜（如ITO，用于柔性触摸屏、电磁屏蔽包装）、抗菌膜等。
装饰性镀膜：
金属铬： 最经典，采用直流磁控溅射纯铬靶，获得亮银色效果。
氮化钛： 采用反应溅射，在Ar+N₂气氛中溅射钛靶，获得仿金色。
氧化锆/氮化锆： 通过调节反应气体比例，可以获得金色、蓝色、紫色等彩色效果。
高阻隔性镀膜：
氧化硅： 采用反应溅射，在Ar+O₂气氛中溅射硅靶。透明度高，柔韧性好，是主流的透明高阻隔方案。
氧化铝： 同样采用反应溅射铝靶，阻隔性极佳，但柔韧性略逊于氧化硅。
透明导电膜：
ITO： 采用反应溅射锡掺杂的氧化铟靶，需要在一定的基板温度下进行以获得低电阻。常用于需要电磁屏蔽功能的包装。
