薄膜材料生长于基板材料（如屏幕显示玻璃、光学玻璃等）表面，通常由金属、非金属、合金或化合物等镀膜材料构成，具备增透、吸收、截止、分光、反射与滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰及复合功能等多重特性，可显著提升产品质量、实现环保节能、延长产品寿命并增强原有性能。目前主流薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）与化学气相沉积（CVD）两大体系。

1. 溅射镀膜技术
通过离子源产生离子，在真空中加速汇聚成高速离子束轰击固体表面，离子与固体表面原子发生动能交换，使固体原子脱离基体并沉积于基板表面。被轰击的固体作为沉积薄膜的原料称为溅射靶材。靶材主要由靶坯与背板（背管）构成：靶坯作为受离子束轰击的核心部件，其表面原子被溅射沉积成膜；背板则起固定支撑作用，兼具优良导电导热性能。该技术具有成膜均匀性好、厚度可控、重复性佳等优势，所制备薄膜纯度高、致密性强、附着力优异，已成为薄膜制备的主流技术之一，推动着高附加值溅射靶材需求的持续增长。

2. 真空蒸发镀膜技术
在真空环境中通过蒸发源加热物质使其气化，沉积至基板表面形成薄膜。蒸发物质称为蒸发材料，系统由真空室、蒸发源与基板装置三大模块组成。蒸发源既需承载蒸发材料，又需提供足够热能使其达到所需蒸气压。该技术以操作简便、成膜快速见长，主要适用于小尺寸基板材料的镀膜工艺。

这两类PVD技术共同构建了现代功能性薄膜制备的工艺基础，通过材料科学与真空工程的深度融合，持续推动着光电、新能源、半导体等前沿领域的技术革新。