常用物理气相沉积（PVD）电极材料：
透明导电氧化物（TCO）：包括ITO（氧化铟锡）、AZO（铝掺杂氧化锌）、GZO（镓掺杂氧化锌）等，用于制备前电极。
超薄金属电极：银、铜、金等金属纳米线或网格（厚度＜100纳米），实现导电性与透光性的平衡。
复合电极：金属/氧化物堆叠结构（如银/氧化锌），通过多层PVD沉积优化光电性能。
（1）透明导电电极（TCO）制备
磁控溅射PVD沉积ITO工艺：
在柔性基材（聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、聚酰亚胺PI）上低温（＜150℃）溅射ITO，电阻率可达10⁻⁴Ω·cm量级，550nm波长透光率＞90%。
技术难点：铟为稀缺资源，需开发AZO、GZO等替代材料。通过反应溅射（通入氧气）调控载流子浓度。
超薄金属电极：
采用热蒸发沉积5-10纳米超薄银层，搭配抗反射层（如三氧化钼），实现透光率＞85%，方阻＜10Ω/□。
应用案例：钙钛矿太阳能电池中采用银/ITO复合电极，器件效率提升至＞25%。
（2）背电极与金属网格
柔性铜铟镓硒太阳能电池钼背电极：
在聚酰亚胺基材上溅射约500纳米厚钼层，需控制应力防止基板翘曲。
工艺优化：采用梯度沉积（低功率→高功率）提升附着力，经弯折测试无裂纹产生。
金属纳米线网格：
通过掩膜板溅射/蒸发银/铜形成微米级网格，填充透明导电聚合物（如聚3,4-乙烯二氧噻吩:聚苯乙烯磺酸盐PEDOT:PSS），实现方阻＜5Ω/□，透光率＞90%。
