柔性电子镀膜解决方案

在柔性电子领域，磁控溅射 是卷绕PVD的绝对主流和首选工艺。

• 磁控溅射工艺的优势 

  1. 低温沉积：柔性塑料基材（如PET， PI）无法承受高温（通常<150°C），磁控溅射在常温或低温下即可获得高质量薄膜。

  2. 膜层均匀致密：溅射出的粒子动能高，形成的膜层均匀、致密、附着力好，针孔少，这对于电子器件的性能至关重要。

  3. 沉积速率可控：易于控制沉积速率和膜厚，适合制备各种功能性薄膜（导电、阻隔、绝缘）。

  4. 靶材选择广泛：可溅射金属、合金、氧化物、氮化物等多种材料。

  5. 工艺稳定，易于规模化：非常适合与R2R系统集成，实现7×24小时连续生产。

• 在柔性电子中的应用价值

  • 实现柔性器件制造：是生产柔性显示屏、柔性太阳能电池、柔性传感器、电子标签等产品的核心技术。

  • 颠覆性成本优势：相比传统的单片式玻璃基板处理，R2R生产效率呈数量级提升，大幅降低了单位面积的生产成本。

  • 轻、薄、可弯曲：产品最终形态具备柔韧性，开启了电子产品的新形态。

• 主要应用领域

  • 透明导电薄膜：用于触摸屏、柔性OLED照明与显示、薄膜太阳能电池。

  • 高阻隔封装膜：用于柔性OLED和量子点显示的封装，保护器件不受环境侵蚀。

  • 柔性印刷电子：RFID天线、柔性电路板。

  • 智能包装与物联网。

  • 光学薄膜：增透膜、反射膜、装饰膜。