外框一体式大腔体结构时序 ALD 系统,内部集成 4 套独立工艺内腔,面向大型异形零部件工业化批量镀膜打造。单腔可放置直径<500mm 大型异形工件,各内腔均配备独立喷淋头与专属进出气系统,支持分腔独立运行;标配热法 ALD 工艺,支持臭氧 ALD 工艺,可完成氧化铝等各类常见金属氧化物保护层沉积,以高性价比实现批量化生产,完美适配各类异形结构件镀膜需求。
根据您的先进封装需求定制的ALD 解决方案
专为先进封装中的导电通孔、绝缘层和种子层而设计
精确控制和高度均匀性有助于减少缺陷并改善先进封装创新和生产
支持更小尺寸、更多层级的先进封装设计,助力技术迭代
原子层控制以满足微米和纳米级沉积需求
高密度、高保形涂层,实现均匀、可靠的覆盖
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