TALD-D500 时间型原子层沉积系统

双腔异形基底专用时序 ALD 系统，面向三维异形零部件功能保护层批量制备打造。标配热法 ALD 工艺，支持臭氧 ALD 工艺，可完成氧化铝等各类常见金属氧化物薄膜沉积，适配深孔、凹凸结构、立体器件的高保形全覆盖沉积；腔体尺寸可根据需求定制，不局限于标准机型尺寸。

核心技术优势

双腔控温设计，温场均匀一致
采用双腔结构搭配独立分区控温系统，针对异形工件热场特性专项优化，有效消除腔体空间温差与工件受热不均，保障工艺腔内样件温度高度一致，确保薄膜沉积均匀性与批次重复性。
多级层流流场，高保形均匀镀膜
采用多级层流气流组织，避免湍流扰流，前驱体平缓、均匀扩散至深孔、凹凸及异形结构内壁与死角区域，结合 ALD 原子级保形沉积特性，实现立体工件全表面无死角均匀镀膜，膜厚一致性优异。
多工艺兼容，膜系覆盖全面
标配热法 ALD，支持臭氧 ALD 工艺，可稳定制备氧化铝等各类常见金属氧化物薄膜，满足耐腐蚀、耐磨、绝缘阻隔等防护需求。
腔体尺寸定制，适配性强
标准机型兼容 φ500mm 口径、300mm 高度工件，同时支持根据客户需求定制腔体规格，不局限于标准尺寸，适配不同规格异形工件。
工业级设计，运维高效
工业级高可靠架构适配连续批量生产，侧开门结构便于工件装卸与腔体维护，运行稳定，停机维护成本低。

设备型号	TALD-D500
腔体结构	双腔独立设计，可独立或同步运行
工件兼容	标准兼容 φ500mm 直径、高度≤300mm 立体工件，腔体尺寸支持按需定制
工艺模式	标配热 ALD，支持臭氧 ALD
适配膜系	氧化铝等主流金属氧化物薄膜，支持单层功能膜与多层叠层
保形能力	适配深孔、凹凸、异形结构全表面保形沉积
可选配置	臭氧发生器、定制载料架

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