TALD-B300 为大容量量产批次式时序 ALD 系统，面向半导体 12 英寸（300mm）晶圆规模化产线、精密光学元件批量镀膜场景开发。单批次最高可装载 80 片 12 英寸晶圆，兼容热 ALD 与等离子增强 PEALD 两类工艺；支持单层功能薄膜与多层纳米叠层结构的原子级精准制备，完美适配 Al₂O₃、SiO₂、TiO₂等主流氧化物材料及组合叠层体系。设备支持根据客户产品结构定制专用载料架，结合 ALD 优异的保形沉积能力实现工件全表面全覆盖镀膜，尤其适配曲面光学镜头、异形器件等复杂形貌工件的批量沉积需求。