复合铝箔镀膜解决方案

复合铝箔采用4.5-8微米的PET/PP/PI等高分子薄膜作为基材，通过PVD工艺在其两侧沉积一层约1微米的铝层，形成“铝-高分子-铝”的三明治结构。

其核心价值在于：

1. 极高的沉积速率与产能： 电阻蒸发可以将铝材瞬间加热至熔融、汽化，产生极高的铝原子流，实现远超溅射的沉积速率，非常适合大规模生产。

2. 极低的设备与运营成本： 电阻蒸发源结构简单，电源功率要求远低于同产能的溅射电源，设备投资和电力消耗成本显著降低。

3. 优异的膜层纯度： 过程无溅射气体（如氩气）引入，沉积的铝膜纯度高，本征导电性更好。

4. 低粒子损伤： 蒸发粒子主要为中性原子，能量低，对聚合物基材的等离子体轰击损伤和辐照损伤极小，特别有利于保护热敏性基材（如PP）的机械性能。

PVD工艺流程

1. 放卷： 在真空锁室内装入基材卷。

2. 预抽与传输： 经一级真空室预抽后，薄膜进入高真空主腔室。

3. 等离子体清洁： 薄膜首先通过在线等离子体体清洁站，双面同时被活化。

4. 双面沉积： 活化后的薄膜紧贴冷却辊，依次通过上、下对称布置的多个电阻蒸发源区。铝丝被持续送入蒸发舟，汽化的铝原子向上、下方向的薄膜表面沉积。

5. 膜厚监测： 集成非接触式光学监控或石英晶振片，实时监测膜厚并反馈控制送丝速率。

6. 冷却与收卷： 完成沉积的薄膜经过后续冷却段，最终在出口真空锁室收卷。