对于强烈弯曲、三维、微米或纳米结构的组件，原子层沉积(ALD) 技术特别适用。
原子层沉积的一个关键优势是层厚度和成分的精确控制。
HCVAC为来自行业和研究领域的客户提供针对特定应用的灵活解决方案。
ALD（原子层沉积）技术因其无与伦比的均匀性、保形性、精确的膜厚控制和无针孔等特点，在高端3D镜头（特别是用于结构光、飞行时间法等精密深度感知的镜头）的镀膜中具有不可替代的优势。
3D镜头，尤其是用于人脸识别、AR/VR、机器人导航等领域的镜头，对成像质量和光学稳定性要求极高。传统镀膜技术（如电子束蒸发、磁控溅射）的局限性在于：
台阶覆盖率差：对于非球面、非对称或带有微结构的镜片，膜层均匀性难以保证。
存在针孔：可能导致杂散光或激光穿透，影响信噪比。
膜厚控制精度有限：影响中心波长位置的精确性。
ALD技术的优势 ：
极致均匀性与保形性：ALD通过自限制的表面化学反应逐层生长，可以在任何复杂形状的基底（包括高曲率的非球面透镜）上沉积出厚度均一、保形性100%的薄膜。这对于保证镜头边缘和中心的光学性能一致至关重要。
原子级的膜厚控制：每个ALD循环沉积一层原子/分子层，膜厚与循环次数成正比，控制精度可达埃米级。这对于需要精确控制中心波长的带通滤光片至关重要。
无针孔致密薄膜：ALD生长的薄膜非常致密，能有效阻隔水汽、离子扩散，并极大减少针孔，降低散射和杂散光。
优异的材料多样性：可以沉积多种高性能光学薄膜材料，如 Al₂O₃、TiO₂、SiO₂、Ta₂O₅、HfO₂ 等。
