在触摸屏（尤其是高端智能手机、平板电脑、车载显示等）的制造中，PVD是制备这些功能性薄膜的主流技术。其优势在于：
高纯度、高致密性：薄膜质量好，性能稳定。
良好的附着力：薄膜与基材结合牢固。
均匀性与一致性：在大面积基板上能获得厚度均匀的薄膜。
环保：相对于一些湿法化学工艺，是更清洁的生产方式。
功能：提供触摸传感所必需的导电性。ITO是铟锡氧化物的缩写，它在可见光范围内具有高透过率，同时具有较低的电阻率。
PVD镀膜方案：
主要技术：磁控溅射
靶材：ITO靶材（通常是氧化铟和氧化锡的混合物，如In₂O₃:SnO₂ = 90:10 wt%）。
功能：通过光的干涉相消原理，减少屏幕表面的光反射，提高在强光下的可视性和对比度。单层AR膜通常针对特定波长（如550nm绿光），而宽带AR膜需要多层结构。
PVD镀膜方案：
主要技术：磁控溅射 或 电子束蒸发。
材料与设计：
单层AR膜：最常用的是 SiO₂。其折射率（~1.46）介于空气（1.0）和玻璃（~1.5）之间，通过镀制1/4波长的厚度，可以在中心波长实现最低反射。
多层AR膜：采用高低折射率材料交替的结构，如 TiO₂/SiO₂、Nb₂O₅/SiO₂ 等。TiO₂或Nb₂O₅作为高折射率层，SiO₂作为低折射率层。通过精确设计每层的厚度，可以在整个可见光波段（380-780nm）实现极低的反射率。
功能：在屏幕表面形成一层憎水、憎油的薄膜，使指纹、汗水、油脂等难以附着，即使附着也容易擦拭干净。其主要原理是降低表面能。
PVD镀膜方案：
主要技术：磁控溅射 或 电子束蒸发 或 电阻蒸发。
