金属带卷绕真空镀膜设备

HCMRC系列设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术及独特设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层和防腐蚀膜层，改善金属卷材表面特性，扩展应用范围。

模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积效率高，镀膜速度快，是大型不锈钢卷连续镀膜生产线的最佳选择。

采用模块化设计，是用于薄膜镀膜的灵活生产工具。 通过我们各种技术的独特组合，可以生产高反射膜、高吸收膜和装饰性镀膜。此外，为了更广泛的应用，我们还可以沉积防触摸膜层或者防腐膜层。