High power impulse magnetron sputtering coating system HiPIMS溅射涂层系统
HiPIMS-800结合了经典直流溅射镀膜系统的所有优点和最新的HiPIMS技术的能力。该系统共配备六个溅射阴极，其中四个可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外两个直流阴极可以操作，例如，提供更复杂的多层涂层，提供颜色和顶层涂层，或只是增加沉积速率。这些技术在一个过程中的绝对自由组合，以非常低的生产成本提供了有限的涂层设计范围。在纯HiPIMS模式下，沉积速率为2μm/h，处理时间为4-5小时。当所有6个阴极同时工作时，可达到3μm/h。这是迄今为止1.800圆柄工具或5.000可转位刀片涂层容量的难以置信的低生产时间。
HiPIMS-800能够沉积所有可用的HCVAC溅射涂层和市场上几乎所有的PVD涂层。此外，它是开发定制流程的理想机器。客户友好用户界面“数据视图”和集成规划工具“数据计划”有助于设计单独的涂层解决方案。您的涂层将使您的产品在市场上脱颖而出，让用户获得竞争优势。其他功能，如用户友好的平板电脑和手机远程控制，便于维护的组件，全自动阴极百叶窗，自动关门和快速更换涂层台的装置使HiPIMS-800成为生产和开发最先进的高性能涂层的最佳涂层系统。
| 主要模块 | |
| Arc | HiPIMS |
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创新的APA蒸发器技术（先进的等离子辅助）基于阴极真空电弧，为新的层结构提供了多种开发可能性。 优势： ●靶材使用率高，降低靶材成本 ●沉积率高 ●磁场可调节 ●靶材更换时间短 ●等离子体密度高 ●完美的涂层结合力 |
HiPIMS代表高功率脉冲磁控溅射。 优势： ●离化率高（类似于电弧法） ●高功率密度，从 100 到1000 W/cm2 ●等离子密度非常高 ●可以通过等离子参数设置来调节层结构 ●涂层非常光滑 ●完美的涂层结合力 ●在低基材温度下沉积致密的涂层 |
| 其他模块 | |
| 溅射 | 氮化 |
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在溅射工艺中，通过高能离子（Ar）轰击靶材，分离成原子进而转化成气相。通过结合溅射材料和其他气体，将涂层沉积在基材上。 优势： ●可以溅射多种材料 ●多种工艺变量可用 ●光滑的涂层 ●结合功率刻蚀工艺AEGD获得好的涂层结合力 |
使用氮化模块，可在同一个系统、同一个批次，在PVD和/或PACVD涂层工艺之前进行等离子氮化工艺。由此生成一个硬化层，为后续的PVD/PACVD涂层提供完美的支撑。 优势： ●优化工具和零部件属性 ●替代昂贵的基材 ●显著延长寿命 ●可以应用所有PVD涂层 |
| DLC | ta-C |
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DLC就是类金刚石涂层，指一系列具有超低摩擦系数的非晶碳涂层。使用DLC模块，可以通过使用PVD和/或PACVD工艺来生成不同的DLC涂层。标准DLC涂层包括不含金属或含金属的碳基涂层。 优势： ●完美的涂层结合力 ●高耐磨性 ●低摩擦系数 ●光滑的涂层 |
ta-C 就是不含氢的四面体非晶碳，指的是一组极硬、低摩擦的非晶碳涂层。使用ta-C模块可以生产不同的ta-C涂层。 优势： ●适用于比DLC更高的温度环境 ●非常高的耐磨性 ●完美的涂层结合力 ●光滑的涂层 |
