HCMS+CA系列

膜层致密性好

Good film density
真空应用解决方案提供商
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Magnetron sputtering vacuum coating equipment 磁控溅射镀膜设备

      中频磁控溅射技术已渐成为磁控溅射镀膜的主流技术,它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象;减弱或消除靶的异常弧光放电。因此,提高了溅射过程的工艺稳定性,同时,提高了介质膜的沉积速率数倍。

      最新研发平面靶,圆柱靶,孪生靶,对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。

      该设备提供各种金属颜色的涂层,如钢、镍、金、青铜以及无烟煤和黑色。涂层的颜色是由其成分决定的,由锆、钛、氮、碳、氧等金属组成。我们的工艺工程团队可以根据您的要求对颜色进行微调,使您有可能在您的市场中独树一帜。

Product Advantage.

产品优势
HCMS+CA系列磁控溅射镀膜设备包括以下关键功能:
  • 高效

    沉积速度快、基材温升低、膜层损伤小

  • 结构紧凑

    占地面积小,易于集成到工厂

  • 精准

    精确控制镀层的厚度

  • 优质

    薄膜纯度高、致密性好、成膜均匀性好

  • 多样化

    不同金属、合金、氧化物混合溅射

  • 监控

    本地或远程监控镀膜过程

型号 HCMS-1212CA
真空室尺寸 Ф1200×H1200mm
制膜种类 多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型 直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构 立式双开门、立式单开门
真空系统 机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号 HCMS-1612CA
真空室尺寸 Ф1600×H1200mm
制膜种类 多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型 直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构 立式双开门、立式单开门
真空系统 机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号 HCMS-1912CA
真空室尺寸 Ф1900×H1200mm
制膜种类 多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型 直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构 立式双开门、立式单开门
真空系统 机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
型号 HCMS-2121CA
真空室尺寸 Ф2100×H2100mm
制膜种类 多功能金属膜、复合膜、透明导电膜、增返射膜、电磁屏蔽膜、装饰膜等
电源类型 直流磁控电源、中频磁控电源电源、高压离子轰击电源
靶类型 直流磁控靶、中频孪生靶、平面靶、圆柱靶
真空室结构 立式双开门、立式单开门
真空系统 机械泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷系统)
充气系统 质量流量控制仪(1-4路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
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