HCEB系列

大功率电子束蒸发技术

high power E-beam evaporation technology
真空应用解决方案提供商
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EB-PVD WEB COATING EQUIPMENT EB-PVD卷绕真空镀膜设备

      HCEB系列是一种基于柔性材料的卷对卷镀膜系统,采用成熟的大功率电子束蒸发技术,在聚合物薄膜或薄型金属带上高速沉积功能性膜层。HCVAC可以根据顾客所需求的规格制造紧凑型或大批量生产型镀膜系统,能够在最大程度上提升产品生产的效率,大批量生产,可用于单面或双面沉积的应用,HCVAC为聚合物和金属膜薄膜应用提供量身定制的卷绕镀膜解决方案。

优势:

气撑式冷却鼓
在双面涂层或金属箔基材的情况下,增强基材与冷却鼓之间的接触
坩埚位置可调,快速沉积
大功率电子束枪
完美聚焦
高达50kV的加速电压,实现更高的速率
无切断中频电源
经过优化,维护保养快速便捷

Product Advantage.

产品特点
HCEB系列EB-PVD卷绕真空镀膜设备包括以下关键功能:
  • 卓越

    高系统的通用性和灵活性

  • 智能

    智能机器理念保证品质

  • 简单

    易于操作和清洁

  • 设计紧凑

    设施占地面积最小

  • 温控

    温控涂层辊筒(-15至+80°C)

  • 稳健设计

    易于维护和机器高正常运行时间

型号 HCEB-800
幅宽 800mm
卷径 Max.Φ650mm
卷绕速度 0.5~20.0 m/min
卷绕张力 10~2000 N
基材 PET,  金属 (metal), etc
基材厚度 25~125 μm
涂层 Cu, Al, Ag, Ti, Zn, SiOx, Cr, 锌镁合金(Zn-Mg alloy)
膜厚 Max. 2μm
镀膜模式 单面镀膜,双面镀膜
注:可客制化(数据仅供参考)

Application cases.

应用案例
型号 HCEB-1650
幅宽 1650mm
卷径 Max.Φ650mm
卷绕速度 0.5~20.0 m/min
卷绕张力 10~2000 N
基材 PET,  金属 (metal), etc
基材厚度 25~125 μm
涂层 Cu, Al, Ag, Ti, Zn, SiOx, Cr, 锌镁合金(Zn-Mg alloy)
膜厚 Max. 2μm
镀膜模式 单面镀膜,双面镀膜
注:可客制化(数据仅供参考)

Application cases.

应用案例
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邮箱:office@hcvac.com