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卷绕镀膜设备
该系列设备在厚度4.5-8.0µm的PET/PP等基材表面采用蒸发的方式，双面镀制一层1µm的铝膜， 实现薄膜表面金属化，“PVD铝-高分子支撑层-PVD铝”三明治结构，攻克大规模快速蒸发沉积厚铝膜难关。
HCMRC系列设备采用公司新开发的磁控溅射镀膜技术、阴极电弧离子镀膜技术、 EB-PVD及独特设计的离子源辅助沉积镀膜技术等多种技术组合，成功应用在大卷径宽幅高真空连续卷绕镀膜设备中，可正反面镀制装饰性膜层、防腐蚀膜层和，改善金属卷材表面特性，扩展应用范围。
模块化设计概念，带材纠偏系统、等离子体预处理、磁控溅射系统、在线测量和工艺控制系统、电子束蒸发灵活组合。膜层均匀性好，沉积效率高，镀膜速度快，是大型金属带连续镀膜生产线的最佳选择。
HCPAK系列设备是用于铝屏障包装应用的卷对卷金属化解决方案。在利润率较低的行业中，最高的生产效率，再加上卓越的产品性能，是应对未来挑战的答案。 通过将传统的铝涂层沉积到宽范围的柔性基板上增强光学、保护和阻隔性能。
HCPAK系列覆盖了1100～3850mm的宽幅，以及所有常见的塑料薄膜和纸张基材，针对2500mm以上大宽幅基材以不同的速度实现最大输出，比传统系统提高25%以上的处理速度。
凭借智能机器概念,始终如一的出色最终产品质量，最低的颗粒产生（磁控管的溅射方向）,易于维护和清洁,防刮和防皱绕组（闭环张力控制），等离子预处理（可选）,温控涂层鼓（-15至+ 80°C,用于高真空泵送的涡轮分子泵和冷阱,原位层测量系统,凭借智能且坚固的设计,易于维护且机器正常运行时间较长,紧凑的设计,最小的设备占地面积
HCCAP系列设备可满足无限制范围的电容器金属化膜的要求，在真空状态下，将铝或锌铝蒸镀到薄膜的表面。从标准到高端应用，从厚膜到薄膜，从平面设计到分段设计，从厚层到薄层，从纯层到叠层，所有可能的组合都可以在一个系统中实现。带有多个选项和专有组件的模块化概念使HCCAP系列成为批量生产的标准产品以及诸如超薄胶片和分段图案等高度复杂应用的首选系统。
HCSEC系列设备是在PET和（B）OPP基材上大批量镀制保护、安全和光学效果的卷对卷镀膜设备。两个不同的蒸发器用于不同的材料，最大限度地减少灵活性，同时减少安装时间。层沉积是以热蒸发为基础的。铝、银和硫化锌是最常用的涂层材料。
一种基于柔性材料的卷对卷镀膜系统，采用成熟的大功率电子束蒸发技术，在聚合物薄膜或薄型金属带上高速沉积功能性膜层。HCVAC可以根据顾客所需求的规格制造紧凑型或大批量生产型镀膜系统，能够在最大程度上提升产品生产的效率，大批量生产，可用于单面或双面沉积的应用，HCVAC为聚合物和金属膜薄膜应用提供量身定制的卷绕镀膜解决方案。
HCVAC-PVD
