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PVD真空镀膜设备工艺介绍

2022-11-10

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       PVD真空镀膜设备镀膜技术是在真空腔体中将钛、金、银、石墨、水晶等金属或非金属、化合物、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积一层薄薄膜层表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比,PVD有很多优点:如对环境无污染,是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强,膜厚均匀,颜色靓丽,改变其功能性能等。


PVD真空镀膜设备


      PVD技术中经常使用的方法主要有:蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术),这些方法统称物理气相沉积(Physical Vapor Deposition),简称为PVD。行业内通常所说的“IP”(ion plating)离子镀膜,是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用,为了强调离子的作用,而统称为离子镀膜。
      PVD真空镀膜设备又分很多种类,常见的有装饰真空镀膜设备、功能性真空镀膜设备、汽车零部件真空镀膜设备、连续式真空镀膜设备、卷绕真空镀膜设备,设备所投入使用领域不一样,所都镀制的膜层效果不一样,选择的真空镀膜设备类型不一样。目前市场装饰真空镀膜设备占比最高,但是也是市场最常规的镀膜设备。近几年,随着汽车新能源的发展,市场上目前相对较热门的设备,数复合集流体复合铜箔镀膜设备和双极板真空镀膜设备,技术工艺要求较高,较严格,成本也相对来说较高。