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高真空电子束蒸发真空镀膜机特点介绍

2022-08-13

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      高真空电子束蒸发真空镀膜机长应用在电子行业,手机壳,镜头、滤光片  智能手机等,应用非常广泛,那高真空电子束蒸发镀膜机有哪些特点呢,下面汇成真空小编为大家详细介绍一下:


真空镀膜机


      高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下,采用电子束轰击材料加热蒸发的方法,在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等;可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜;可镀各种高熔点材料。可用于生产、科学实验及教学,可根据用户要求专门订制。
      可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。

设备特点 
       高真空电子束真空镀膜机具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点,配备 E 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。PID自动控温,具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。
可根据用户使用要求,选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等,从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。

真空性能
极限真空:7×10^-5Pa~7×10^-6Pa
设备总体漏放率:关机12小时,≤10Pa
恢复工作真空时间短,大气至7×10-4Pa≤30分钟

设备构成
E 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件(可选配)、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构,膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。
可选件:膜厚监控仪,恒温制冷水箱。

热蒸发源种类及配置
E 型电子束蒸发系统:1套      
功率 :6kW~10kW其它功率(可根据用户要求选配)
坩埚 :1~8只 可根据用户要求选配
电阻热蒸发源组件:1~4套(可根据用户要求配装)

电阻热蒸发源种类
-钽(钨或钼)金属舟热蒸发源组件
-石英舟热蒸发源组件
-钨极或钨蓝热蒸发源组件
-钽炉热蒸发源组件(配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚)
-束源炉热蒸发组件(配石英坩埚或氮化硼坩埚)