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真空镀膜设备镀制薄膜均匀性介绍

2022-06-22

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      工件在真空镀膜设备腔体里面镀膜,对膜层的均匀性机会都是有要求的,特别是精密光学和用于电子产品的工件,对薄膜的均匀性要求标准非常高,膜层的均匀性决定着功能问题和颜色问题等,膜层均匀性常常作为一种严格的标准来考核。下面汇成真空小编为大家详细介绍一下真空镀膜设备镀制膜层均匀性介绍,希望能帮助到大家:


真空镀膜设备


      一、真空镀膜设备真空镀膜机厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学特性来说,真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
      二、真空镀膜设备真空镀膜机化学组分上的均匀性: 就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。
      三、真空镀膜设备真空镀膜机晶格有序度的均匀性: 这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题,具体见下。
真空镀膜设备真空镀膜机主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜,具体则包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,溶胶凝胶法等等 。对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
      真空镀膜设备镀制膜层厚度均匀性主要取决于基片材料与靶材的晶格匹配程度,基片表面温度,蒸发功率,速率,真空度,镀膜时间,厚度大小,膜基距离,以及靶材的排布等。