v 离子真空镀膜机镀膜技术简称离子镀，是由美国Sandin公司开发的将真空蒸发和真空溅射结合的一种镀膜技术，离子镀膜过程是真空条件下，利用气体电使工作气体或被蒸发物质部分离化，在工作气体离子或被蒸发物质的离子轰击作用下，把蒸发物或其它反应物沉积在被镀基片表面的过程。
在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起，不仅明显地提高镀层的各种性能，而且大大扩充了镀膜技术的应用范围。离子镀除兼有真空溅射的优点外 ，还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。因此，近年来在国内外得到了迅速的发展。离子镀的基本原理是借助一种惰性气体的辉光或弧光放电使金属或合金蒸汽离子化。离子镀包括镀膜材料（如TiN、TiC）的受热、蒸发、沉积过程。蒸发的镀膜材料原子在经过辉光区时，一小部分发生电离，并在电场的作用下飞向工件，以几千电子伏的能量射到工件表面上，可以打入基体约几纳米的深度，从而大大提高了涂层的结合力，而未经电离的蒸发材料原子直接在工件上沉积成膜。惰性气体离子与镀膜材料离子在工件表面上发生的溅射，还可以清除工件表面的污染物，从而改善结合力。
离子真空镀膜机镀膜技术应用广泛，利用离子技术可以在金属、合金、导电材料，甚至非导电材料基体上进行镀膜。离子镀沉积的膜层可以是金属膜、多元合金膜、化合物膜，即可镀一层，也可镀多层，还可以镀梯度镀层和纳米多层镀层，采用不同的膜材，不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数，可以获得表面强化的硬质耐磨镀层、致密且化学性质稳定的耐蚀镀层等。
