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真空镀膜机金属件装饰膜PVD镀制工艺

2020-12-10

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       真空镀膜机金属件PVD装饰膜镀制工艺,主要为在装饰产品设计。例如大型板材管材、家具装饰品上镀保护膜,真空镀膜设备镀膜后的产品能够展现出雍容华贵、光彩夺目等各种各样的美丽效果,并且膜层耐磨损不褪色。


真空镀膜机


       1.装饰件材料(底材)
       (1)金属。不锈钢、钢基合金、锌基合金等。
       (2)玻璃、陶瓷。
       (3)塑料。ABS、PVC、PC、SHEET、尼龙、水晶等。
       (4)柔性材料。涤纶膜、PC、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。
       2.装饰膜种类
       (1)金属基材装饰膜层:TiN、ZrN、TiC、CrNx、TiCN、CrCN、Ti02、Al等。
       (2)玻璃、陶瓷装饰膜层:TiO2、Cr2O3、MgF2、ZnS等。
       (3)塑料基材装饰膜层:AI、Cu、Ni、Si02、Ti02、ITO、MgF2。
       (4)柔性材料装饰膜层:Al、lTO、Ti02、ZnS等。
      真空镀膜机用磁控溅射离子镀技术为黄铜电镀亮铬的卫生洁具镀制ZrN膜。真空镀膜设备采用基材为锆的非平衡磁控溅射靶和中频电源,以及脉冲偏压电源。
       (1)抽真空
       5 X 10-3~6.6 x 10-13Pa本底真空。真空镀膜设备加热温度应在真空室器壁放气后又回升到100~150℃。
       (2)轰击清洗
       真空度:通人氩气真空度保持在2~3Pa。轰击电压:800~1000V,脉冲占空比20%。轰击时间:10min。
       (3)镀膜
       ①沉积锆底层
       真空度:通入氩气,真空度保持在s x l0-1Pa。靶电压:400—550V,靶功率15 N 30W/Crrr2。脉冲偏压:450~500V,占空比20 %。镀膜时间:5~10min。
       ②镀ZrN膜
       真空度:通入氮气,真空度保持在(3~5) x 10-1Pa。靶电压:400~550V,靶电流随靶的面积增大而加大。脉冲偏压:150~200V,占空比80 %。镀膜时间:20~30min。
       由于真空镀膜机磁控溅射技术中金属离化率低,不容易进行反应沉积,获得化合物膜层的工艺范围比较窄。真空镀膜机可采用气体离子源将反应气体离化,扩大反应沉积的工艺范围。也可以采用柱状弧源产生的弧等离子体作为离化源,柱状弧源还是辅助镀膜源。