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真空镀膜机HiPIMS技术代表的是高功率脉冲磁控溅射，常见磁控溅射技术广泛应用于薄膜制备领域，装饰镀膜应用领域和工具镀膜应用都比较常见，但磁控溅射处理技术有很多的局限性，例如磁控溅射靶功率密度受靶热负荷的限制，即当溅射电流较大时，过多的正离子对靶进行轰击可能使溅射靶过热而烧损，溅射的能量有限金属离化率不高等问题。近年来国内外发展起来了一种高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS))技术，大大弱化了这种限制。高功率脉冲磁控溅射的峰值功率是普通磁控溅射的100倍左右，溅射材料离化率极高，且这个高度离子化的束流不含大颗粒，正因如此HiPIMS可以很容易得到高质量的膜层。
