新闻中心

News centres
首页 > 新闻中心 > 行业动态 > 磁控溅射真空镀膜设备镀膜原理介绍

磁控溅射真空镀膜设备镀膜原理介绍

2020-09-03

213
分享

       真空镀膜设备磁控溅射镀膜技术已经广泛应用到各行各业,受到众多镀膜厂家的青睐,但是大部门对磁控溅射真空镀膜设备镀膜原理认识还是很浅显,下面汇成真空小编为大家整理一些关于磁控溅射镀膜设备镀膜原理介绍,希望能帮助到大家:


磁控溅射真空镀膜设备


       真空镀膜设备使用磁控溅射镀膜靶源,无论是非平衡式还是平衡式的磁控溅射镀膜靶源,如果是静止的磁铁产生的磁场功对材的利用率会小于30%。一般的小型镀膜设备,多采用磁场静止靶材。鉴于此,可以通过更改磁场来增大对靶材的利用,旋转磁场用在大型设备,贵重靶材上。

       磁控溅射技术总体来说都是利用电子与磁场的交互,产生大量离子撞击靶材完成靶材的溅射,其中离不开惰性气体的参与,在如今的磁控溅射设备中已经淘汰了线圈的磁铁改为更高效率的永久磁铁。

       一台良好的磁控溅射镀膜设备代价很高,靶源相当于镀膜设备的心脏但往往容易被购买者忽视,很多朋友注重膜层厚度的测量、配套的真空泵好坏,MFC程序是否好用,别的方面在好如心脏不够有力对整体的效果的影响是很大的,源的冷却是保障源不被高温所损坏的必须配置。

       磁控溅射可以有中频、高频和直流之分,中频磁控溅射的原理很直流磁控溅射是一样的,在整个系统磁控溅射镀膜中,筒体与阴极和阳极的安排有关联,其不同在于直流磁控溅射的阳极是筒体,而中频磁控溅射成对出现。就中频磁控溅射而言,如今使用比较多的是镀制一些金属的产品,这种设备一般制作的比较大型,可以放下非常多的产品一起镀制,提高了效率以及膜层的致密性。

       利用不同的磁控溅射镀膜技术可以得到不同的离子密度,改变磁场的设计可以改变离子的量以及分布,对于磁控溅射技术来说磁场是机密的。值得注意的是,在国际上脉冲反应的磁控溅射特别是欧洲的镀膜公司开始大规模的应用。

       真空镀膜设备的生产厂家都在努力提升膜层质量,包括镀制速度、附着力、均匀度等;对于膜层附着力的问题也陆续的出现了很多新技术方法,包括双极脉冲清洗、高压清洗等,对于产品镀膜前的抛光、清洗能提升效果。近年来过滤阴极弧技术发展的较为迅速也一定程度上改善了膜层出现不均匀的问题。