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关于真空镀膜设备磁控溅射镀膜系统相关知识

2020-08-22

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       真空镀膜设备磁控溅射镀膜是一种镀膜工艺,是被众多人熟知和市面应用最广泛的镀膜工艺,应用到光学行业,我们一般称之为光学磁控溅射镀膜设备,应用到装饰行业,一般我们称之为装饰真空镀膜设备,应用到卷绕行业,我们一般称之为卷绕真空镀膜设备。磁控溅射镀膜技术几乎在每个行业都有应用到,也被众多厂家所认可。

       1.真镀膜设备磁控溅射原理:
       真空镀膜设备磁控溅射法是一种较为常用的物理沉积法。磁控溅射是在真空室中,利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶表面,并利用环状磁场控制辉光放电,使溅射出的粒子沉积在基材上。磁控溅射可以 方便地镀制高熔点物质的薄膜层,在很大面积上可以镀制均匀的膜层。 

       2.真空镀膜设备磁控溅射工艺流程:
       在镀膜过程中,工艺的选择对薄膜的性能具有重要的影响,根据磁控溅射技术原理,结合设备的实际应用,对膜层的要求厚度范围为nm~μm数量级, 膜厚<550nm,如对光有干涉作用,属于薄膜范畴,通常称光学薄膜技术。

       3.真空镀膜设备磁控溅射镀膜的特点:溅射速率高,沉积速率高。溅射源的靶材具有极强的DIY选择组合。
       真空镀膜设备磁控溅射阴极源是一个较为理想的可控源,沉积的膜层厚度与溅射源的功率或放电电流有较好的线性相关性,所以有较好的可控性, 能较好地实现批量生产产品的一致性和重复性。溅射源可较理想地置于真空室内长时间稳定工作,获得纯正的膜层,提高真空镀膜附着力确保膜层质量。

       4.真空镀膜设备磁控溅射高真空的获取:
       真空是一种不存在任何物质的空间状态,是一种物理现象。在“真空” 中,声音因为没有介质而无法传递,但电磁波的传递却不受真空的影响。 事实上,在真空技术里,真空是针对气体而言,一般而言,高真空的获取是通过油扩散泵,油扩散泵能比机械泵获取更高的真空度。