新闻中心

News centres
首页 > 新闻中心 > 行业动态 > 光学真空镀膜机镀膜技术和装备

光学真空镀膜机镀膜技术和装备

2020-07-22

69
分享

       光学真空镀膜机给人感觉,遥不可及,但是现如今光学镀膜机在市场上使用非常广泛了,也得到了很多厂商的认可和喜爱。今天汇成小编为大家讲解一下关于光学镀膜相关的知识。光学薄膜是现代光学和光电系统最重要的组成部分,在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件,其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。光学薄膜的技术性能和可靠性,直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。随着行业的不断发展,精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高,而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。


光学真空镀膜机


       光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展,从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点:
 
一、渐变折射率结构薄膜技术与装备:
        渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布,能设计出非常复杂的光谱性能,(部分)消除
了薄膜界面特征,(部分)消除界面效应,如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射,也可以增加了薄膜力学稳定性。
 
二、磁控溅射光学镀膜系统
        以Leybold Helios和Shincron RAS为代表,磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单,粒子能量高,获得的薄膜结构致密稳定。
 
三、间歇式直接光控:
        间歇式直接光控:以Leybold Optics公司的OMS5000系统为代表,光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统,对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统,间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差,可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。
 
         以上是汇成小编,精选的光学镀膜相关知识,希望能帮助对光学真空镀膜机镀膜知识感兴趣朋友,后期提供更多关于光学镀膜机镀膜相关的知识,提供大家学习和参考。