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PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤及原理

2020-07-21

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       厂家在采购PVD真空镀膜机时,商家都会培训PVD真空镀膜机的相关知识,如镀膜技术工艺步骤、原理、保养维护方法,机器的运行注意事项等等,今天汇成小编为大家介绍一下PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤和原理。


pvd真空镀膜机
 
PVD真空镀膜机镀膜技术工艺步骤,分为以下四个步骤:
        (1)清洗工件:接通直流电源,氩气进行辉光放电为氩离子,氩离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出; 
        (2) 镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。 
        (3)镀料离子的迁移:由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞以及高压电场后,高速冲向工件; 
        (4)镀料原子、分子或离子在基体上沉积:工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。
 
         如果是镀离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能,高速轰击工件时,不但沉积速度快,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特别牢。
 
         PVD (Physical Vapor Deposition) 即物理气相沉积,分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的 PVD 镀膜,指的就是真空离子镀膜和真空溅射镀;通常说的 NCVM 镀膜,就是指真空蒸发镀膜。PVD真空镀膜机镀膜工艺原理分为以下三种情况: 
      (1)真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子束轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历史上,真空蒸镀是 PVD 法中使用最早的技术。 
      (2)溅射镀膜基本原理:充氩(Ar)气的真空条件下,使氩气进行辉光放电,这时氩(Ar)原子电离成氩离子(Ar),氩离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在 l0 -2 Pa~10Pa 范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀。 
      (3)离子镀基本原理:在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。
 
         众多商家采购PVD真空镀膜机时,了解机器的工艺步骤和原理是必不可少的环节,以及保养维护等等。