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真空镀膜机钛金镀膜升级换代的新思路

2020-07-15

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       镀膜方式从水镀跨越到真空镀,技术也是随着时间的推移而不断的升级,生活水平也是不断的在提高,那么市场对物品外观的需求也不断的在改观,因此随着社会在变迁,我们的镀膜方式和思路也在更新换代,下面汇成真空小编为大家详细介绍一下真空镀膜机钛金镀膜的新思路。


真空镀膜机


        钛金镀膜是建立在低压气体放电的基础上的镀膜方式,过高或过低的压强均不利于放电,再加上往往是一个反应沉积的过程,必须导入反应气体,因此最佳的沉积压强应在0.2 Pa-0.6 Pa之间,对于阴极电弧离子镀甚至要求1Pa的工作压强,只是传统的真空获得设备无法有效地满足这一条件,为此对工艺的进一步探索留下了悬念。
       但对绝大多数的应用来讲,有一点是肯定的,在镀膜过程中,活性气体的分压强(主要是水蒸汽)越低越好,钛金镀膜更是如此。所以真空重要的往往不在数量(绝对压强),而是在于质量(对活性气体分压的抑制)。一个真空系统,当压强达到约0.5 Pa时,其中90%的是水蒸汽,而进入 Pa,水蒸汽含量则可能达到95%。所以真空系统的本底压强也就是活性气体的分压。水蒸汽的来源是由于真空容器内壁和工件吸附气体的解吸过程,即所谓的放气。
       沉积膜层化学稳定性的检测方法中,通常将被镀工件浸泡在盛有酸碱溶液的容器中,而对膜层的浸蚀作用,并不是容器中酸碱的绝对数量,而是酸碱的浓度和浸泡的时间。同样在膜层沉积过程,活性气体对膜层的不利影响也不是真空室内的活性气体总量,而是活性气体的分压强。
       为了让泵口压强进入稳定工作的范围,传统的方法采用节流措施,这样必然降低机组对系统的有效抽速,对扩散泵而言,抽速要降至标称抽速的10%~20%。涡轮分子泵也要降低约50%。在放气量不变的情况下,扩散泵系统的活性气体分压强就会上升至5~10倍,涡轮分子泵系统也要上升至2倍。这一现象是客观存在的,只是普通镀膜设备不配置分压强计,无法觉出而已。在这种应用场合,本底真空就无法表征镀膜设备真空质量的优劣了。
       任何事物都是由量变到质变。活性气体作为影响膜层质量的有害成份,视其影响的程度应存在一临界的压强,超过此压强其影响不可忽略,而不及此压强其影响可以忽略。这样一来,对配置传统的高真空机组的设备,如把临界压强作为系统本底压强或本底压强,显然是错误的,因为在镀膜阶段,活性分压会明显上升,甚至远远超过临界压强。这不仅在钛金镀膜,其它凡是有预除气过程的应用领域都如此。