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真空镀膜机离子镀膜原理及种类

2020-07-13

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       离子真空镀膜机在生活中广泛被利用,因为它无污染,具有沉积速度快,离化率高,离子能量大,设备操简单,成本低等优势,因此受众多商家亲昧,那它的真空镀膜机离子镀膜原理是怎样的呢?下面汇成真空小编为大家详细介绍一下:


离子真空镀膜机



       在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。
       离子镀是真空室中,利用气体放电或被蒸发物质部分离化,在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时,将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来,不仅能明显地改进了膜质量,而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强,绕射性好,膜材广泛等。离子镀膜种类很多,蒸发源加热方式有电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等
       然而多弧离子镀与一般的离子镀有着很大的区别。多弧离子镀采用的是弧光放电,而并不是传统离子镀的辉光放电进行沉积。简单的说,多弧离子镀的原理就是把阴极靶作为蒸发源,通过靶与阳极壳体之间的弧光放电,使靶材蒸发,从而在空间中形成等离子体,对基体进行沉积。