连续镀膜生产线

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多功能连续镀膜设备

该系列设备主要用于平板玻璃、压克力、PC、PET等基板上镀各种金属膜,介质膜,介质金属复合膜,透明导电膜,CF等膜层。

LOW-E磁控溅射镀膜生产线

Low-E玻璃磁控溅射镀膜生产线,主要用于单、双银低辐射玻璃镀膜,以及可钢化单、双银低辐射玻璃镀膜。用于节能建筑的幕墙及门窗玻璃,能够隔热节能,防治光污染。

大面积透明导电膜生产线

本设备广泛运用在太阳能电池上,透明导电膜作为减反射层和透明电极使用,可以提高太阳能的转换效率,降低成本,无毒环保,膜层稳定,同时可以消除立式生产线无法大规模生产的弊端,可以大大提高生产量。

装饰镀连续生产线

本系列设备采用多弧离子镀具有本征颜色的材料后,加以磁控溅射光学薄膜,对特定波段的光进行强化和弱化,从而组合出任何颜色。

大面积反射镜/彩镜镀膜线

该生产线被广泛用于建筑装饰领域的建筑玻璃产品。它是一种镀膜玻璃,是采用磁控溅射的方式在玻璃上镀各种金属,从而形成可见光反射的玻璃,能够反射大部分的可见光,在夏季也能阻隔室内物体受太阳照射变热,从而发挥节能降耗目的。同时,大面积反射镜生产线,可以采用不同的金属形成不同的反射色彩,是各种装饰行业首选的建筑玻璃。

DLC连续磁控溅射镀膜线

该设备通过磁控溅射方式镀制DLC硬膜,莫式硬度大于8,铅笔硬度大于9H,薄膜硬度接近于蓝宝石玻璃,薄膜透过率大于99.4%,钢丝绒耐磨(@1KG 10mm×10mm>8000次)无划痕,橡皮擦+酒精耐磨>5000次无损伤,可与AF有效良好结合。

钕铁硼表面镀膜连续线

该设备专为镀制钕铁硼等磁性材料而设计,配置旋转阴极提高靶材利用率,配备贵金属回收设计,有效控制生产成本。

半导体连续式镀膜设备

该设备可镀制半导体芯片中的光掩膜基板,EMI封装,配备除气、等离子体处理、溅射等模块,标准化和模块化设计理念,高客制化,兼顾产品规格与低投资成本需求,关键部件采用进口配件,保障设备稳定。

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