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立式磁控溅射镀膜生产线
  • 该系列生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。
  • 该连续线共设计有十五个真空腔体,其中进口室一个、出口室一个、进口缓冲室一个、出口缓冲室一个、进口传送室一个、出口传送室一个和传送室两个;溅射镀膜室七 个,每个溅射镀膜室可以同时安装四个阴极。
  •  抗反射导电膜连续磁控溅射生产线共设计有十五个真空腔体,溅射镀膜室七个,每个溅射镀膜室可以同时安装四个阴极;高真空室采用插板阀隔离,设备配有26台涡轮浮分子泵,13台机械泵以获得稳定的抽速和均匀的气体分布。
  • 该生产线共设计有七个真空腔体部分,两对采用PCU04闭路环控制的中频孪生Si靶,十对圆柱AZO靶,采用分子泵抽气形成气氛隔离的先进设计。