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PVD 技术
PVD 是物理气相沉积的缩写。

什么是PVD技术?

       PVD 是物理气相沉积的缩写,PVD是在真空状态下材料蒸发沉积的技术,真空腔室是必备的条件,以避免蒸发出的材料和空气反应,PVD涂层用来制备新的、具有额外价值和特点的产品,如绚丽的色彩、耐磨损能力和降低摩擦。利用物理气相沉积 (PVD) 工艺,通过冷凝大部分金属材料并与气体结合,如氮,形成涂层。 基体材料是从固态转化为气态,并如在电弧工艺中一样被接受到的热能电离,或者如在溅射工艺中一样由动能电离。PVD技术是环保无污染的,总体来讲,汇成真空专注于PVD硬膜(和PACVD涂层,见下章)。

工艺基础 (PVD)

涂层厚度

0.5 – 10 µm

硬度

1,000 – 4,000 HV