栏目导航
热门事件
HIPIMS和HIPIMS+
物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由电弧蒸发或磁控溅射沉积

运用HIPIMS和HIPIMS+技术制备出致密、无缺陷的涂层

       物理气相沉积涂层(PVD 涂层)主要是由电弧蒸发或磁控溅射沉积,高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)是PVD硬质涂层的第三种方法(电弧离子镀和磁控溅射为前两种方法),HIPIMS技术证明,高电离的优势 (如电弧蒸发)和磁控溅射的优势相结合是可行的,其结果是制备出良好附着力以及致密、光滑的涂层。 

       HIPIMS技术非常适用于蚀刻,由于长达8兆瓦的峰值功率,HIPIMS溅射的原子将进入到基板给予致密,并且具有强大的黏结性柱状层,运用HIPIMS技术涂层也是可行的,但是其沉积率低于目前的溅射技术。

       汇成真空已研制出一种可替代的HIPIMS技术,即HIPIMS+技术,此技术非常适用于涂层, HIPIMS+具有较高的沉积速率,可比电弧蒸发,这使得HIPIMS+技术可广范应用于工业领域。HIPIMS+另一个优点是能更好的利用靶材,并在保持高硬度的同时拥有可调谐的应力,一些HIPIMS+涂层适用于低温涂层,许多不同的物理气相沉积涂层可应用于HIPIMS+技术,如TiN, TiAlN, TiCN, CrN, Cr2N。

       HIPIMS+经测试表明适用于模具,模块,铣刀片,螺纹车削刀片,铣刀和水龙头,HIPIMS和HIPIMS+技术都能制备出致密,无缺陷的涂层,这两种技术都可以在汇成真空生产的真空镀膜设备上应用,当然也可以在汇成真空现有的PVD涂层设备上进行升级。