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连线式磁控溅射镀膜生产线
  • 该系列生产线主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜,LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。
  • 利用射频离子化学气相沉积技术,具有沉积速率快,成膜质量好的特点,可快速镀制大型平面的氧化物薄膜、氮化物薄膜、氧氮化物薄膜、无定型硅薄膜和碳化硅薄膜等薄膜。
  • 该连续线共设计有十五个真空腔体,其中进口室一个、出口室一个、进口缓冲室一个、出口缓冲室一个、进口传送室一个、出口传送室一个和传送室两个;溅射镀膜室七 个,每个溅射镀膜室可以同时安装四个阴极。
  •  抗反射导电膜连续磁控溅射生产线共设计有十五个真空腔体,溅射镀膜室七个,每个溅射镀膜室可以同时安装四个阴极;高真空室采用插板阀隔离,设备配有26台涡轮浮分子泵,13台机械泵以获得稳定的抽速和均匀的气体分布。
  • 该生产线共设计有七个真空腔体部分,两对采用PCU04闭路环控制的中频孪生Si靶,十对圆柱AZO靶,采用分子泵抽气形成气氛隔离的先进设计。
  • 该生产线运用在薄膜太阳能电池上,透明导电膜用为减反射层和透明电极使用,可以提高太阳能的转化效率,用AZO薄膜代替ITO薄膜,不仅可以降低生产成本,而且无毒环保,膜层性能更加稳定。
  • 本设备广泛运用在太阳能电池上,透明导电膜作为减反射层和透明电极使用,可以提高太阳能的转换效率,用CIGS薄膜替代传统薄膜,降低成本,无毒环保,膜层稳定,同时可以消除立式生产线无法大规模生产的弊端,可以大大提高生产量。
  • LOW-E磁控溅射镀膜生产线,主要用于单、双银低辐射玻璃镀膜,以及可钢化单、双银低辐射玻璃镀膜。