HCCL系列

DLC硬膜技术

DLC hard coating Technology
真空应用解决方案提供商
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DLC continuous magnetron sputtering coating line DLC连续磁控溅射镀膜线

     该设备通过磁控溅射方式镀制DLC硬膜,莫式硬度大于8,铅笔硬度大于9H,薄膜硬度接近于蓝宝石玻璃,薄膜透过率大于99.4%,钢丝绒耐磨(@1KG 10mm×10mm>8000次)无划痕,橡皮擦+酒精耐磨>5000次无损伤,可与AF有效良好结合。

      该系列设备具备多种DLC涂层沉积技术,模块化的涂层设备设计,可根据客产品应用需求,单独或组合过滤阴极电弧,闭合场磁控溅射,PACVD和离子源技术模块于DLC沉积设备,适用于多种科学研究,产品开发和批量生产的要求。技术先进,操作方便,能量消耗少,绿色环保等特点,广泛应用于机械,电子,光学,能源,装饰等领域。

      HCVAC开发的DLC涂层,具有良好的附着性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系数,低的表面粗糙度,能在多种金属与合金工模具或零件表面沉积DLC涂层。独特的低温涂层技术,还能适用于在塑胶等不耐高温的材料上沉积DLC涂层。

      DLC涂层具有较高的硬度、优异的减摩耐磨性能、高热导率、低介 电常数、宽带隙、良好的光学透过性以及优异的化学惰性和生物兼容性等,在航空航天、机械、电子、光学、装饰外观保护、生物医学等领域有着广阔的应用前景。DLC涂层适合于磨损和滑动的环境下,在没有任何润滑介质的条件下,可以降低摩擦损耗,可以用于汽车发动机零部件(燃油喷射系统、动力传动系统)、轴承、滚轮、纺织机械、航空航天等众多领域。

Product Advantage.

产品优势
HCCL系列DLC连续磁控溅射镀膜线包括以下关键功能:
  • 立式

    垂直系统配置,粒子碰撞最低

  • DLC

    耐用类金刚石涂层镀膜

  • 温控

    基板表面进行卓越的温度控制

  • 模块化

    多种工艺技术灵活组合

  • 开放

    在轨道系统上完全打开垂直腔室

  • 一致性

    整个腔室中均匀的镀膜沉积速率

项目 性能
最高工作温度 550℃
技术特点 PMAⅡ
AEG
HIPIMS
预处理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
阴极 D120 / D160 / W125
真空条件 极限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
设备配置 磁悬浮分子泵
脉冲偏压电源
PC智能控制系统
备注 选用溅射(UBM,RF等)有效高度会适当减小
在线服务支持系统
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电话:13316689188

邮箱:office@hcvac.com